405 – Massenspektrometrie in reaktiven Plasmen

Die Massenspektrometrie ist in der Plasmaphysik/-technik ein wichtiges Hilfsmittel, die in einem Plasma wirksamen Komponenten zu bestimmen. So ist es häufig der Fall, dass z. B. bei der Oberflächenbehandlung eines Wafers durchaus bekannt sein kann, welches Plasma (Mischverhältnis der beteiligten Gase, Druck, eingekoppelte Leistung) optimale Ergebnisse liefert, ohne eigentlich zu wissen, welche Radikale für die Wechselwirkung Plasma/Oberfläche genau verantwortlich sind. Hier liefert die Massenspektrometrie interessante Einsichten.

Ziel des heutigen Versuches ist es, zum einen die Hysterese eines reinen Ar-Plasmas zu beschreiben (CCP-, ICP-Mode), die Zusammensetzung einer unbekannten Gasmischung zu bestimmen sowie die Plasmazusammensetzung in Abhängigkeit der eingekoppelten Leistung zu ermitteln (Ar/O2– und CH4-Plasma).

405 - Massenspektrometrie in reaktiven Plasmen
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